10.3969/j.issn.1671-1815.2015.36.008
脉冲频率对铌表面熔盐电沉积渗硅的影响
采用熔盐脉冲电沉积法在纯铌表面制备出渗硅层.研究了脉冲频率对渗硅层沉积速率、成分、厚度、组织及相结构的影响,同时考察了渗硅层的高温抗氧化性.结果表明,频率对渗硅层成分无影响.随频率增大,渗硅层厚度和沉积速率均减小.频率由500 Hz增大到1000 Hz时,渗硅层晶粒变得细小致密;超过1000 Hz后,晶粒则变得粗大.渗硅层相结构不受频率影响,均由单相NbSi2组成,并在(110)和(200)晶面上具有择优取向.NbSi2渗层的存在使得纯铌的高温抗氧化性能得以提高.
铌、熔盐脉冲电沉积、频率、渗硅
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TG146.416(金属学与热处理)
河北省自然科学基金E2014209275
2016-03-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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