10.3969/j.issn.1671-1815.2012.10.013
长度可调的纳米线阵列近红外减反射特性
采用金属催化化学腐蚀方法在单晶硅表面制备了有序的纳米线阵列.研究了纳米线长度与腐蚀时间之间的关系.发现纳米线长度随着腐蚀时间的增加而增大.测试了所制备的具有纳米线阵列的硅表面在近红外1 000 nm~2 500 nm范围内的减反射性能.测试结果表明,与未处理的光滑硅表面相比,具有纳米线阵列的表面的反射率大辐降低;并随着纳米线长度的增加,反射率减小.
纳米线阵列、减反射、近红外
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TN304.12(半导体技术)
国家自然科学基金资助项目51005187
2012-07-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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