拉曼光谱法研究微晶硅薄膜应力梯度

摘要：

采用拉曼光谱法研究了不同退火时间下的微晶硅薄膜应力.结果发现样品的应力梯度并不随着退火时间的增加而增大.而是存在最大值,这可能与晶粒尺寸有关,且靠近玻璃衬底的薄膜有较高压应力,由衬底到薄膜表面压应力逐渐减小,直到表面变为拉应力.

关键词：拉曼光谱、微晶硅薄膜、应力

所属期刊栏目：11

分类号：TB341(工程材料学)

在线出版日期：2012-01-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：5647-5649