微立体光刻中光敏树脂特性的实验研究

摘要：

微立体光刻技术是基于快速原型制造技术思想的新型微细加工技术.在微立体光刻制造中,光敏树脂在一定波长的光照下发生固化反应,光敏树脂的曝光量阈值和透射深度是光敏树脂的两个重要的特性参数.对掺入质量比20%氧化硅纳米颗粒自行制备的光敏树脂的两种特性值进行测试研究,测量得到光敏树脂在氮气环境中比与在空气中的曝光量阈值小,分别为5.6 mJ/cm2以及86.5 mJ/cm2;加入光吸收剂后的透射深度比不加入光吸收剂的透射深度小,分别为14以及60.根据测量的树脂的特性值,使用实验室开发的微反射镜动态掩膜微立体光刻系统,成功制作微齿轮.

关键词：微立体光刻、复合材料、曝光量阈值、穿透深度

所属期刊栏目：11

分类号：TH145.42

资助基金：国家重点基础研究发展计划G2009CB929300;国家自然科学基金委员会青年科学基金项目60807039/F050105

在线出版日期：2011-04-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：736-739