直流磁控反应溅射制备Al2O3薄膜的工艺研究

摘要：

应用直流磁控反应溅射技术在不锈钢基体上制备Al2O3薄膜,研究了溅射气压、氧气流量和基体温度对Al2O3薄膜的沉积速率和膜基结合力的影响规律.结果表明,随着压力的增大,沉积速率和膜基结合力先增大后减小.在压力为1.0 Pa时最大;随着氧气流量的增加,沉积速率和膜基结合力也随之不断减小;随着温度的升高,沉积速率和膜基结合力略有下降.利用扫描电子显微镜观察了薄膜与基体界面及薄膜的表面微观形貌,薄膜与基体的结合性好,薄膜表面晶粒大小均匀,组织致密.

关键词：直流磁控反应溅射、氧化铝薄膜、工艺研究、沉积速率

所属期刊栏目：10

分类号：O484;TB43(固体物理学)

资助基金：江苏省农机局项目gxz09010

在线出版日期：2011-01-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：7881-7885