Ni-P-SiO2化学复合镀工艺的研究

摘要：

采用正交试验方法研究了主盐、还原剂、络合剂、纳米SiO2材料4因素对Ni-P-SiO2化学复合镀层性能的影响.试验表明:纳米SiO2材料添加量对镀层性能的影响最大,络合剂次之.当主盐30 g/L,还原剂25 g/L,络合剂20 ml/L,纳米SiO2 6 g/L时,镀层显微硬度达HV889.21,磨损量仅20.6 mg,且镀层分布均匀.

关键词：化学复合镀、正交试验、镀层性能

所属期刊栏目：10

分类号：TG176;O646.54(金属学与热处理)

在线出版日期：2010-08-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：4245-4247