10.3969/j.issn.1671-1815.2008.10.012
SiO2厚度对半导体器件的电子辐射效应的影响
研究了SiO2厚度对光电二极管的电子辐射效应的影响.制备了3种光电二极管,分别采用不同厚度热氧化SiO2作为光敏面钝化膜.以能量为0.8 MeV的电子束为辐射源,对3种光电二极管进行4个剂量的辐射.实验发现,辐照后光电二极管的光电流衰减强烈依赖波长,在短波和长波阶段衰减明显,而在中波阶段基本不衰减;暗电流变化率随着辐照剂量迅速增加.另外,薄钝化的二极管光电流衰减最小,同时暗电流增加最显著.
SiO2、光电二极管、电子辐照效应
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TL814.1(粒子探测技术、辐射探测技术与核仪器仪表)
2008-07-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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2562-2564,2569