RF磁控溅射微波介质陶瓷薄膜的影响因素及其应用

摘要：

RF磁控溅射是目前应用最广泛的一种溅射沉积方法.由于陶瓷溅射的现象相当复杂,目前尚无完整的溅射理论可以用来分析溅射现象,所以通常通过实验来确定溅射过程中的影响因素.综述了RF磁控溅射陶瓷薄膜过程中的影响因素,阐述了微波介质陶瓷薄膜的应用前景,并指出了今后的发展方向.

关键词：RF磁控溅射、微波介质陶瓷薄膜、影响因素

所属期刊栏目：8

分类号：O484.8(固体物理学)

在线出版日期：2008-05-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：1741-1747