硅基场发射阴极材料研究进展

摘要：

场发射显示技术在原理上具有多种优越性能,可能在未来平板显示技术中居主导地位.硅基场发射阴极易于与其周边驱动电路实现集成,因而更具有明显的开发前景.在综述硅基场发射阴极材料最新研究进展的基础上,就其所面临的问题、可能的解决方案和未来的发展趋势做出了评述.

关键词：硅基场致发射阴极材料、硅尖锥形阴极阵列、场发射

所属期刊栏目：5

分类号：O462.4;TB383(真空电子学（电子物理学）)

资助基金：河南省自然科学基金411011800;教育部高校骨干教师资助计划

在线出版日期：2005-03-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：165-173