10.3969/j.issn.1671-1815.2004.03.016
等离子体技术净化CF4及其生成物机理的探讨
讨论了利用等离子体技术净化CF4及其生成物的方法,分析了净化机理.由四极质谱仪的分析结果发现,CF4等生成物的谱峰强度随射频(RF)功率的增加几乎线性地减小.RF功率达到1.8 kW时,已检测不到CF4及其生产物对应的各个谱峰.在净化装置中放置CaO作为吸附剂,在室温下CaO对F有明显的净化作用.采用等离子体技术和化学吸附相结合处理有害气体的方法对环境保护有实际意义.
等离子体技术、有害气体净化、环境保护
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TN405.98+2;X511(微电子学、集成电路(IC))
国家自然科学基金60071032,69771015
2004-06-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
225-226,231