10.3969/j.issn.1674-5639.2012.03.009
镧离子掺杂类普鲁士蓝复合汞膜电极的制备及电分析测定铅
在镧离子掺杂类普鲁士蓝(La-PB)修饰的玻碳电极表面电沉积汞膜,制备了一种新型化学修饰复合汞膜电极La-PB/MFE/GC;研究了修饰层厚度、镀汞方式和汞膜成长过程对复合汞膜形成的影响;并以Pb2+为探针离子,对镧、钴离子掺杂类普鲁士蓝复合汞膜电极和常规玻碳汞膜电极的汞膜稳定性和金属离子的溶出伏安行为等进行了对比研究;同时,应用该电极结合示差脉冲阳极溶出伏安法对实际水样中微量Pb2+的质量浓度进行了测定.结果表明,Pb2+在该复合汞膜电极上的阳极溶出氧化峰电流在4.82×10-9~4.82×10-7mol/L范围有良好的线性关系(r=0.995 5,n=13),检出限为9.06×10-10mol/L,RSD值为2.6%,加标回收率为97%~102%.可用于实际样品的测定.
复合汞膜电极、类普鲁士蓝、镧离子掺杂、溶出分析特性、铅
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O657.1;TQ460.72(分析化学)
云南省应用基础研究基金资助项目2011FZ011
2012-08-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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