10.16660/j.cnki.1674-098X.2020.05.107
热处理对超薄锂电铜箔织构的影响
制备8μm厚度的电解铜箔样品,将样品进行低温退火处理,随后采用扫描电子显微镜、X射线衍射能谱仪、背散射电子显微镜对锂电铜箔的表面形貌及组织结构进行表征.研究低温退火(110℃×5h)对8μm厚度铜箔晶粒尺寸,均匀度以及铜箔织构的影响.试验表明,锂电铜箔样品进行低温时效处理后光面针孔增加明显,晶粒尺寸增加,尺寸均匀度降低.
锂电铜箔、低温退火、织构、晶粒尺寸
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TG146.21(金属学与热处理)
2020-06-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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