光罩清洗的流程以及优化

摘要：

光罩清洗的流程以及优化,需要在实际生产运用中来完善,要保证在不影响清洗能力的情况下来优化各个工艺参数,在各种工艺清洗时的时间和MASK Stage的转速来缩短清洗光罩的时间,而这个参数需要在不断地实验中完善.该文针对目前液晶面板在正常生产的过程中光罩(MASK)日常清洗的流程及工艺,介绍了目前光罩清洗机中使用的几种主要的清洗工艺,清洗光罩时需根据不同原因来选择所需要的工艺来清洗,以及对清洗工艺的优化.

关键词：光罩、光罩清洗机、曝光机

分类号：TB490(工业通用技术与设备)

在线出版日期：2017-04-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：91-92