10.16660/j.cnki.1674-098X.2016.03.054
烧结温度对无压烧结碳化硅陶瓷微观结构及性能的影响
以B4C为烧结助剂无压烧结制备碳化硅陶瓷。研究了烧结温度与碳化硅烧结体密度、三点抗弯强度、维氏硬度之间的关系,并对不同温度下制备的碳化硅陶瓷进行了显微结构形貌观察。结果表明:当烧结温度在2100℃附近时,碳化硅陶瓷的密度达到3.16 g/cm3,相对密度超过98%,微观形貌观察均匀致密,三点抗弯强度达到500 MPa,维氏硬度为2750,具有较好的力学性能。
碳化硅陶瓷、无压烧结、显微结构、性能
TQ174
浙江省工程技术研究中心建设计划2013E10033;中国科协企会创新计划资助项目。
2016-07-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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