(PSTT10/45)4 多层薄膜铁电性研究

摘要：

以LaNiO3做缓冲层,用射频磁控溅射法在SiO2/Si(100)衬底上制备出[0.9Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-0.1PbTiO3/0.55Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-0.45PbTiO3]4铁电多层薄膜.采用两步法在峰值温度800 ℃对薄膜进行退火.通过x射线衍射分析了薄膜的物相结构,通过电滞回线和漏电流曲线对薄膜的铁电性能进行了测量.研究发现,薄膜展现出高度(100)取向的钙钛矿结构和增强的铁电性,其剩余极化2Pr=26.2 μc/cm2,矫顽场2Ec=53.9 kV/cm,100 kV/cm下漏电流密度为1.87×10-4A/cm2.分析了铁电性增强和漏电流增大的可能原因.

关键词：多层薄膜、铁电性、电滞回线、XRD

所属期刊栏目：12

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金60771016;绵阳师范学院科研课题QD2013A07

在线出版日期：2015-08-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：6-7