单晶样品材料的生长与纳米量级光刻工艺探索

摘要：

基于电子束直写技术在纳米尺度刻蚀的标准过程,探索适用于单晶样品的刻蚀工艺,在微米尺度上建立一套方案,给出各步骤条件参量,以期进一步应用到单晶样品的纳米尺度光刻。

关键词：单晶、纳米光刻、微米光刻、电子束直写

分类号：TN321.5(半导体技术)

在线出版日期：2012-07-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：7-8