单晶碳化硅磁流变抛光工艺实验研究

摘要：

针对传统光学加工中碳化硅表面质量精度低和难于加工的特点,提出用磁流变直接加工碳化硅表面的工艺流程.采用自行研制的磁流变抛光机对mm的6H-SiC进行了抛光实验研究.结果表明,直径为40mm的碳化硅材料圆柱体,硅面经过20min的磁流变粗抛, 表面粗糙度Ra提升至5.9nm,亚表面破坏层深度降至35.764nm,经过磁流变精抛和超精抛,表面粗糙度最终提升至0.5nm,亚表面破坏层深度降至1.4893nm,表面变得非常平坦,无划痕.由此表明,所采用的工艺流程可以实现碳化硅表面的纳米级抛光和非常小的亚表面破坏层深度.

关键词：磁流变抛光、碳化硅、亚表面破坏层、粗糙度

分类号：TH164

在线出版日期：2011-01-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：112-113