10.3969/j.issn.1674-098X.2010.32.009
多晶硅薄膜ELC制备方法中控制纵向热流的探索
准分子激光晶化(ELC)制备多晶硅薄膜是当前制造低温多晶硅TFT的主流技术.本文在非晶氮化硅栅绝缘层中特定区域引入气泡区或者微孔区,大幅度减小该区域的热导率,从而在后面的准分子激光退火过程中建立起适合于晶粒超级横向生长的温度梯度,并初步分析了该方案的可行性.
多晶硅薄膜、ELC制备方法、诱生微孔、多晶硅
TQ26(基本有机化学工业)
2011-01-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共2页
11,13