光学介质薄膜抗激光损伤特性的研究

摘要：

采用离子束辅助沉积的方式镀制了几种介质膜料的单层膜.利用1.064 μm调Q Nd:YAG脉冲激光器,对它们的损伤特性进行了研究.观察并讨论了在不同激光能量下薄膜的损伤现象,同时利用Taylor Hobson干涉仪检测了薄膜表面的粗糙度变化.研究表明,在不同的激光能量下,单层HfO2薄膜出现了不同的损伤形态,且表面粗糙度随着激光能量的增加有正相关的变化;在同一激光能量下,不同工艺条件制备的HfO2薄膜有不同程度的损伤,可以得到较好的制备工艺参数;三种不同的氟化物薄膜即氟化镁(MgF2)、氟化钡(BaF2)、氟化钇(YF3)在相同的激光能量下,也出现了不同的损伤形貌,得出了损伤阀值高的薄膜是氟化钇薄膜.

关键词：光学介质薄膜、激光损伤、损伤形态

分类号：TN24(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家科技部资助项目2007DFR70180.陕西省科技厅资助项目2008KW-12

在线出版日期：2010-06-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：112-114