光学元件全口径抛光中温度分布对元件面形的影响规律及其控制方法研究

摘要：

大口径平面光学元件,尤其是热膨胀系数较大的材料,极易在全口径抛光中受到温度的影响导致面形精度难以控制.建立抛光过程中光学元件温度场的有限元模型,模拟分析全口径抛光过程中空气、抛光液对元件上下表面的温度分布的影响规律;基于接触力学理论和有限元方法建立光学元件与抛光盘的接触力学模型,分析元件变形对抛光压力分布的影响.基于Preston方程探索压力分布对元件表面材料去除分布和面形精度的影响规律;提出控制元件内温度分布、进而提高元件面形精度的方法.结果表明,对于610 mm 口径的K9元件,低频面形PV可以达到0.2 λ(1λ=0.632 8μm).

关键词：全口径抛光、多物理场、低频面形、光学元件

所属期刊栏目：58

分类号：TG356(金属压力加工)

资助基金：国家自然科学基金52005134

在线出版日期：2022-10-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：46-54