确定性磁射流抛光技术

摘要：

介绍一种新型的磁场辅助稳定射流的确定性精密抛光技术--磁射流抛光技术.磁射流抛光利用局部外加轴向磁场固化含有磨料的磁流变液射流束,产生准直的硬化射流束进行相对远距离的确定性精密抛光.介绍该工艺的工作原理,其次定性分析了聚束射流形成的原因,通过一系列试验验证了该工艺精密抛光深凹表面的可行性,还进行磁射流去除波纹度的试验研究,基于计算机控制光学表面成形技术进行去除函数的优化计算.试验结果表明磁射流集束性好,对于抛光距离不敏感,因此在高陡度的凹形光学零件和内腔等复杂形面的确定性精密抛光中具有潜在的独特优势.

关键词：磁射流抛光、聚束射流、高陡度凹形零件、去除函数优化

所属期刊栏目：45

分类号：TH161

资助基金：国家自然科学基金50775215;新世纪优秀人才支持计划资助项目

在线出版日期：2009-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：171-176