沉积温度对脉冲真空弧源沉积类金刚石薄膜性能的影响

摘要：

利用脉冲真空弧源沉积技术在Cr17Ni14Cu4不锈钢和Si(100)基体上制备了类金刚石(DLC)薄膜,研究了基体沉积温度对DLC薄膜的性能和结构的影响.研究表明,随着沉积温度由100 ℃提高到400 ℃,DLC薄膜中sp3 键质量分数减少,sp2键质量分数增多,薄膜复合硬度逐渐降低.当DLC薄膜沉积温度达到400 ℃时,薄膜中C原子主要以sp2键形式存在,与沉积温度为100 ℃时制备的DLC薄膜相比,薄膜复合硬度降低50%.DLC薄膜具有优异的耐磨性,摩擦因数低,随着沉积温度由100 ℃提高到400 ℃,Cr17Ni14Cu4不锈钢表面沉积的DLC薄膜耐磨性降低.沉积温度为100 ℃时,Cr17Ni14Cu4不锈钢表面沉积的DLC薄膜后,耐磨性大幅度提高.DLC薄膜与不锈钢基体结合牢固.

关键词：类金刚石、耐磨性、脉冲真空弧源沉积、显微硬度、基体温度、X光电子能谱

所属期刊栏目：40

分类号：TG17(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金30370407,30300087;国家重点基础研究发展计划973计划G1999064706;国家高技术研究发展计划863计划102-12-09-1

在线出版日期：2004-09-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：20-23