贵金属溅射靶材的研究进展

摘要：

溅射靶材是磁控溅射制备薄膜的关键原材料,其质量决定着溅射薄膜的性能.贵金属溅射靶材因具有优异的物理和化学性能而广泛应用于高性能薄膜的制备.综述了贵金属溅射靶材制备方法、技术要求和应用情况的研究进展,指出高纯化、大尺寸、高利用率以及靶材生产与溅射镀膜一体化是贵金属靶材未来发展方向.

关键词：贵金属;溅射靶材;薄膜;制备方法;应用

所属期刊栏目：45

分类号：TG146.3(金属学与热处理)

资助基金：国家重点研发计划项目;云南省国际合作计划项目;云南省创新团队项目

在线出版日期：2021-09-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：8-14,102