基体偏压对磁控溅射制备CrAlN纳米多层薄膜微观结构和力学性能的影响

摘要：

采用磁控溅射技术在不同基体偏压(-60,-70,-80,-90 V)下制备了CrAlN纳米多层薄膜,研究了基体偏压对薄膜微观结构和力学性能的影响.结果表明:随着基体偏压绝对值增大,CrAlN纳米多层薄膜中的氮含量增加,物相组成不变,择优取向由CrN(111)晶面转变为CrN(200)晶面,薄膜表面孔隙减少,组织致密性得到改善;基体偏压为-60～-80 V时,偏压对薄膜沉积速率的影响较小,偏压绝对值大于80 V时,沉积速率明显下降;随着基体偏压绝对值增大,薄膜的硬度和弹性模量提高,膜基结合力先增大后减小,在偏压为-80 V时达到最大.

关键词：CrAlN纳米多层薄膜、磁控溅射、基体偏压、微观结构、力学性能

所属期刊栏目：45

分类号：TG174(金属学与热处理)

资助基金：浙江省自然科学基金资助项目 Y15E050060

在线出版日期：2021-03-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：41-45