高能喷丸镁合金表面磁控溅射铝膜的微观结构和耐腐蚀性能
对AZ91D镁合金基体表面进行不同时间(0,20,30,40 min)高能喷丸(HESP)处理,再采用磁控溅射技术在HESP基体表面沉积铝膜,研究了铝膜的微观形貌与耐腐蚀性能.结果表明:HESP基体表面铝膜的表面组织均匀、致密,铝膜较厚,且随着HESP处理时间的延长,组织更加细小、均匀,铝膜厚度增大;经40 min HESP处理后,铝膜与基体之间存在明显的过渡层,二者的结合力为16 N,是未经HESP处理的3.2倍;与未经HESP处理的相比,HESP基体表面铝膜在NaCl溶液中的自腐蚀电流密度与在盐雾中腐蚀24 h后形成的腐蚀坑深度均较小,且随着HESP处理时间的延长,自腐蚀电流密度与腐蚀坑深度均减小,铝膜的耐电化学和耐盐雾腐蚀性能显著提高.
镁合金、高能喷丸、磁控溅射、耐腐蚀性能
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TG178(金属学与热处理)
教育部科技攻关重点项目;榆林市科学与科技局项目
2020-06-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
72-76,81