电连接接触面用低熔点锡基多元合金的制备及其与T2铜基板的结合性能
熔炼了Sn-3.5Ag、Sn-1.6Cu、Sn-Zn-0.7Cu、Sn-8Zn-3Bi等4种低熔点(低于230℃)合金,根据这4种合金在T2铜基板上的铺展面积确定出铺展效果较好的合金,并分析了该合金与铜基板的界面结合情况.结果表明:Sn-1.6 Cu合金在T2铜基板上的铺展性能最好,其铺展面积最大,且铺展后的表面光滑,Sn-3.5Ag合金的铺展性能次之,Sn-Zn-0.7Cu合金和Sn-8Zn-3Bi合金的铺展性能较差;Sn-1.6 Cu合金在铜基板上铺展后,其连接界面无气孔、裂纹等缺陷,界面处发生了元素互扩散,形成了铜锡固溶层,界面结合性能良好.
低熔点合金、铺展面积、铜基板、元素扩散
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TN604(电子元件、组件)
中国南方电网有限责任公司科技项目YNKJXM20170732;中国电机工程学会青年人才托举工程项目2017-2019 年
2019-12-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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9-11,26