不同Si3N4相涂层坩埚中全熔多晶硅锭的制备及表征

摘要：

以α-Si3N4和β-Si3N4粉为原料,采用免烧结工艺在坩埚内壁上分别制备了α-Si3N4涂层、β-Si3N4涂层以及二者质量比为1∶1的复合涂层,然后在这些涂层坩埚中制备得到了多晶硅铸锭,观察了涂层和硅锭的表面形貌,测试了硅锭的表面粗糙度、晶粒大小以及红区长度.结果表明:α-Si3N4涂层表面粗糙不平、起伏不均匀,对应硅锭的表面粗糙度和晶粒尺寸最大,红区最长;β-Si3N4涂层表面较平整且起伏均匀,对应硅锭的表面粗糙度最小,晶粒尺寸较小,红区最短;复合涂层的表面粗糙度介于上述二者之间,对应硅锭的晶粒尺寸最小,红区长度介于二者之间.

关键词：表面粗糙度、Si3N4涂层、红区长度、晶粒尺寸

所属期刊栏目：41

分类号：TM615(发电、发电厂)

资助基金：河南省科技发展计划项目142102210428

在线出版日期：2017-06-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：59-62