化学气相沉积法制备硅质量分数6．5％硅钢的脆性

摘要：

采用化学气相沉积(CVD)法制备了硅质量分数为6．5％的硅钢，利用扫描电镜、能谱仪和自主设计研发的三点压弯机研究了反应温度、气氛含氧量和 SiCl4含量对硅钢脆性的影响.结果表明：硅钢的晶粒尺寸随反应温度的升高而长大，硅钢的脆性随着晶粒尺寸的增加而增大；气氛含氧量在100 mg·kg－1时所制备的硅钢产生了晶界氧化现象，使硅钢脆性增加；SiCl4含量较大时(体积分数35％)所制备的硅钢产生了 Kirkendall 空洞，导致其脆性加剧.

关键词：CVD 法、硅钢、脆性、晶界氧化

分类号：TB31(工程材料学)

资助基金：中央高校基本科研业务资助项目1114036;上海高校青年教师培养资助计划YG0142129

在线出版日期：2016-01-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：12-16