ATO透明导电薄膜的研究进展

摘要：

概述了国内外掺锑氧化锡(ATO)透明导电薄膜制备技术的研究现状,包括溶胶凝胶法、射频磁控溅射法、喷雾热解法、化学气相沉积法等,对比分析了各种制备方法的优缺点和及其所制备薄膜的性能;介绍了薄膜厚度、锑掺杂浓度、退火工艺参数等对薄膜光学性能的影响,提出了开发具有良好光学性能ATO薄膜需要解决的问题.最后对ATO薄膜今后的发展方向进行了展望.

关键词：ATO薄膜、制备方法、光学性能

所属期刊栏目：37

分类号：TB32(工程材料学)

资助基金：科技部创新基金资助项目10C26224302621

在线出版日期：2013-12-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：5-9,20