MoS2/Ni复合膜的微结构与摩擦学性能

摘要：

采用磁控溅射法,在20CrMnTi基片上制备了MoS2/Ni复合膜,通过X射线衍射仪、能谱仪、扫描电子显微镜和微摩擦磨损试验机对薄膜的形貌、物相和摩擦学性能进行了测试与分析.结果表明:MoS2/Ni复合膜形貌规整,结构均匀；其摩擦因数低,具有较好的耐磨性和抗氧化性,承载能力大,在高转速摩擦条件下的性能更加优异.

关键词：MoS2/Ni复合膜、磁控溅射、摩擦磨损性能

所属期刊栏目：37

分类号：TB742(真空技术)

资助基金：国家自然科学基金资助项目50471051

在线出版日期：2013-07-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：68-71