射频磁控溅射法制备氮化硼薄膜

摘要：

采用射频磁控溅射方法在T10钢表面获得了氮化硼薄膜.借助光学显微镜、摩擦磨损试验仪和划痕试验仪等研究了溅射时间、溅射功率以及中间层对薄膜性能的影响.结果表明:氮化硼薄膜的摩擦因数约为钢基材料的一半,中间层镍磷合金的加入使薄膜结合力显著提高.

关键词：射频磁控溅射、氮化硼薄膜、摩擦因数、结合力

所属期刊栏目：30

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：江苏省重点实验室基金kjsmcx04005

在线出版日期：2006-12-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：15-17