10.3969/j.issn.1000-3738.2004.11.005
磁控溅射制备不锈钢薄膜研究
研究了磁控溅射镀膜工艺参数中溅射功率、溅射时间以及真空度等对不锈钢薄膜制备的影响,通过对获得的不锈钢薄膜层进行金相分析与其他性能测试发现:试验中溅射功率为100W、溅射时间为2h、真空度为0.08Pa、氩气压力为1.5MPa的条件下制得的薄膜性能最佳.
磁控溅射、薄膜、不锈钢
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TG174.44(金属学与热处理)
2004-12-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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