化学镀NiP原子沉积过程二维计算机模拟

摘要：

建立了非晶态化学镀NiP原子沉积过程计算机模拟模型,用Monte Carlo方法对原子沉积过程进行了二维(2D)计算机模拟.结果表明,吸附原子的迁移概率及最大迁移距离S对镀层的显微孔隙有显著的影响.随着吸附原子迁移概率的增加(k减小)及最大迁移距离S的增大,吸附原子有更大的概率迁移到配位数较多的位置处沉积,即原子填充空穴及孔隙的机会多,镀层孔隙率低.

关键词：计算机模拟、化学镀镍磷合金、Monte-Carlo方法

所属期刊栏目：26

分类号：TQ153.1

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：15-18