退火工艺对硅通孔填充Cu微结构演化与胀出行为的影响

摘要：

采用不同电流密度和外加剂浓度将Cu电镀填充到硅通孔(TSV)制作晶圆试样,将试样置于Ar气环境内进行退火处理.观测了硅通孔填充Cu (TSV-Cu)的胀出量和界面完整性,分析了电镀参数对填充Cu微结构(晶粒尺寸)以及微结构对填充Cu退火胀出量的影响.结果表明,电流密度和外加剂浓度影响TSV-Cu的晶粒尺寸.电流密度越高,晶粒尺寸越小;外加剂浓度越高,晶粒尺寸越小,但其影响程度不如电流密度显著.退火后,Cu的晶粒尺寸变大,TSV-Cu发生胀出,胀出量与Cu晶粒尺寸具有正相关的关系.随着TSV-Cu的胀出,Cu-Si界面发生开裂,裂纹沿界面层中的Cu种子层内部延伸.

关键词：硅通孔、电镀Cu、退火、微结构、胀出量

所属期刊栏目：52

分类号：TG425.1(焊接、金属切割及金属粘接)

资助基金：国家自然科学基金资助项目11272018;Supported by National Natural Science Foundation of China No.11272018

在线出版日期：2016-04-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：202-208