Co/Pd纳米多层膜的制备及其磁性能

印仁和姬学彬张磊曹为民朱律均石新红陈浩

上海大学;

摘要：

以单晶Si(111)为基底,采用双槽法电结晶制备了Co/Pd纳米多层膜,使用电化学石英晶体微天平(EQCM)精确测定沉积过程中Co和Pd膜的质量随沉积时间的变化.通过电位阶跃法探讨了沉积层晶体成核机理,得到Co和Pd电结晶初期均为三维瞬时成核过程. X射线衍射(XRD)研究表明,Co和Pd的结晶与生长显示择优取向,出现了111Co-Pd的合金峰.并用物性测量系统(PPMS)测试了Co/Pd多层膜的磁性能,所得磁滞回线表明:矫顽力随着多层膜磁性层厚度的减小而增大,可达到9.0×104 A/m.

关键词：电结晶、Co/Pd纳米多层膜、X射线衍射、电化学石英晶体微天平、磁滞回线

所属期刊栏目：44

分类号：TG115.21(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金20271062;上海市教委资助项目02AQ83

在线出版日期：2008-07-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：445-450