PCVD制备Ti1-xAlxN硬质薄膜的结构与硬度

摘要：

用直流等离子体增强化学气相沉积(PCVD)方法获得了Ti1-xAlxN硬质薄膜;考察了Al含量x及高温退火对薄膜微观结构转变过程及其硬度的影响.结果表明,制备的Ti1-xAlxN薄膜由3-10 nm晶粒组成.随Al含量x增加,薄膜硬度升高,x超过0.83时,硬度开始急剧下降;结构分析证实x小于0.83,Ti1-xAlxN薄膜是固溶强化;x=0.83,薄膜中出现六方氮化铝相(h-AlN).热稳定性实验表明,Ti1-xAlxN薄膜的纳米结构和硬度在N2环境下可以维持到900℃.

关键词：(Ti、Al)N硬质薄膜、微观结构、硬度、热稳定性

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分类号：TG113(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金50271053,50371067;国家高技术研究发展计划863计划2001AA883010

在线出版日期：2004-08-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：669-672