Au/NiCr/Ta多层金属膜的表面粗糙度和纳米压入硬度的研究

摘要：

采用磁控溅射方法在Si-(111)基片上沉积 Au/NiCr/Ta多层金属膜利用XRD分析晶体取向,SEM观察表面和断面形貌,AFM研究表面粗糙度,纳米压入研究薄膜硬度.结果表明薄膜表面粗糙度依赖于基体沉积温度,并且影响薄膜电阻和纳米硬度.

关键词：Au/NiCr/Ta多层膜、表面粗糙度、纳米压入

所属期刊栏目：38

分类号：TB302(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金59931010;中-法合作项目PRA MX9906

在线出版日期：2004-08-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：449-452