考虑材料去除特性的球形刀具抛光轨迹规划新方法
采用传统的轨迹规划方法时,由于未考虑抛光过程中刀具-工件接触力学特性的变化,容易产生过抛光或欠抛光现象.为此,提出一种考虑材料去除特性的轨迹规划新算法.基于赫兹理论,得到了球形抛光刀具与曲面接触区域的压强分布与速度分布,据此建立了抛光过程材料去除模型,并给出了相邻抛光轨迹的最优行距数值解法.分析了刀具姿态角对材料去除深度和轨迹规划算法结果的影响,通过优化行距与进给速度来适应相邻轨迹刀具姿态角的变化,以避免欠抛光与过抛光.仿真与试验结果表明,该算法能有效保证材料去除均匀性,达到期望的材料去除深度,抛光后的表面质量相对等参数法更佳.
抛光、材料去除、最优行距、轨迹规划
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TP242(自动化技术及设备)
2023-04-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共10页
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