面向Top-Down设计流的表面微加工掩膜推导方法

摘要：

针对表面硅微加工,运用层模型间几何元素运算获得粗掩膜的基本数据.采用工艺约束修演得到精掩膜,解决了多层刻蚀与可加工性问题,并进行模型重构,以校正设计模型的工艺不合理性.应用协同的方法解决了设计端模块与工艺端模块的集成问题,最终得到优化的设计模型和掩膜序列.

关键词：微器件、掩膜推导、Top-Down、工艺模型、表面微加工

所属期刊栏目：19

分类号：TP391.7(计算技术、计算机技术)

资助基金：国家自然科学基金50375118

在线出版日期：2007-07-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：798-803