[CrAlSiN/Si3N4]n多层膜的性能和抗氧化行为的研究

摘要：

采用反应溅射的方法制备了一系列不同CrAlSiN层厚度的[(CrAlSiN)d/(Si3N4)0.33nm]n多层膜,并系统研究了CrAlSiN层厚度对其结构、形貌、力学性能和抗氧化行为的影响.研究表明,当CrAlSiN层厚度为3.2 nm时,[(CrAlSiN)d/(Si3N4)0.33nm]n纳米多层膜具有最优异的力学性能,此时硬度高达34 GPa.随后在空气气氛下用高温管式炉对[(CrAlSiN)d/(Si3N4)0.33.]n多层膜进行氧化实验,氧化温度为700、800、900℃,保温时间2h.实验结果表明,800℃氧化处理后,多层膜仍能保持28.5 GPa的硬度值,显示出优秀的抗氧化能力.

关键词：[CrAlSiN/Si3N4]n多层膜、硬质涂层、磁控溅射、力学性能、抗氧化性能

所属期刊栏目：23

分类号：TG174.4;TB383;S827

资助基金：国家重大科学研究计划;国家自然科学基金;国家自然科学基金

在线出版日期：2016-10-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：17-23