清华成功研发光刻机双工件台系统样机

摘要：

清华大学国家科技重大专项“光刻机双工件台系统样机研发”通过验收,使我国成为少数能研制光刻机双工件台这一超精密机械与测控技术领域尖端系统的国家之一.项目由清华大学机械工程系朱煜教授担任负责人,以研制光刻机双工件台系统样机为目标,力争为研发65～28nm双工件台干式及浸没式光刻机提供具有自主知识产权的产品级技术.

机标关键词：双工件台、光刻机、系统样机

分类号：TN305.7;TN405.7;TP273.5

在线出版日期：2016-08-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

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