iCMOSTM--工业电子工程领域的重大突破

摘要：

@@ 当今最先进的集成电路(IC)制造工艺正在重新开拓工业市场.迄今为止,在电噪声环境中以高电压工作的数据转换器、放大器、开关、多路复用器和其他器件一直沿着减小制造工艺尺寸的发展路线不懈地努力.美国模拟器件公司(Analog Devices,Inc.,简称ADI)提出了iCMOSTM--工业CMOS制造工艺,这种创新的制造工艺技术使客户可以在采用亚微米尺寸工艺的器件上施加高达30V电压,如果选用沟道扩展,可将工作电压提高到50V.

机标关键词：工程领域、电子工程、重大突破、icmostm--

分类号：TP336;C962;P619.14

在线出版日期：2005-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：77-78