SiO2-SiNx体系光学谐振腔中Ti超导薄膜特性的研究

摘要：

设计良好的光学谐振腔是提高超导转变边沿传感器(TES)光学效率的有效手段,光学谐振腔结构厚度的变化,不仅对TES的光学效率有影响,而且会产生不同的残余应力进而影响TES的超导特性.研究了以超导Ti膜为TES功能层材料,同时选用SiO2-SiNx体系作为光学谐振腔薄膜.通过对数值仿真,确定了 SiO2-SiNx体系光学谐振腔薄膜厚度变化对Ti-TES光学吸收效率的影响.分析了 SiO2-SiNx体系光学谐振腔不同薄膜厚度的变化自身应力随之变化的趋势,最后制备了不同厚度SiO2-SiNx光学谐振腔的TES,并进行光学吸收效率的测试,验证了SiO2-SiNx体系光学谐振腔薄膜厚度对Ti-TES光学吸收效率变化的规律.

关键词：计量学、TES、超导薄膜、光学谐振腔、SiO2-SiNx体系、Ti膜

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分类号：TB96(计量学)

资助基金：国家自然科学基金;国家自然科学基金;国家市场监督管理总局科技计划;国家市场监督管理总局科技计划;中国计量科学研究院基本科研业务费重点领域项目;北京长城学者支持计划项目;北京青年拔尖人才支持计划项目

在线出版日期：2023-05-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：549-554