纳米尺度HfO2薄膜的光谱椭偏模型建立

摘要：

为了建立厚度为1 nm左右HfO2超薄膜的光谱椭偏测量方法,采用掠入射X射线反射技术进行国家/地区实验室间比对认证,其膜厚准确量值作为参比值,建立了HfO2超薄膜的光谱椭偏结构拟合模型.研究了HfO2超薄膜的光谱椭偏色散模型和拟合参数,最后确定了拟合色散模型为Tauc-Lorentz 3,拟合光谱范围为3.45～4.35 eV,表面污染层孔隙比例为60∶40.

关键词：计量学、HfO2超薄膜、纳米尺度、光谱椭偏模型、掠入射X射线反射技术

所属期刊栏目：38

分类号：TB921(计量学)

资助基金：国家质量基础的共性技术研究与应用重点专项基金2016YFF0204300;国家重点研发计划纳米科技重点专项2016YFA0200901

在线出版日期：2017-10-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：548-552