离子束刻蚀光栅掩模图形转移分析

摘要：

依据特征曲线法推导出非晶体表面的离子束刻蚀模拟方程；结合全息光栅的刻蚀特点开发出离子束刻蚀模拟程序。模拟程序获得的模拟刻蚀参数可以用于类矩形光栅的刻蚀工艺参数设计，准确地描述不同工艺过程、工艺参数对最终刻蚀结果的影响，进而实现离子束刻蚀过程的可控性和可预知性。

关键词：衍射效率、刻蚀模拟、全息光栅

分类号：O438.1(光学)

资助基金：国家重大科研装备开发专项2011YQ120023

在线出版日期：2015-01-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：628-632