紫外全息凹面光栅离子束刻蚀技术

摘要：

通过对引出的平行离子束流外加可控磁场，可以实现离子束流偏转。该方法实现IV型凹面光栅沿曲面不同闪耀角离子束刻蚀，能够获得高衍射效率的IV 型凹面光栅。经过理论设计计算出理想的IV型凹面光栅闪耀角，利用全息曝光-弯转离子束刻蚀工艺制作出尺寸45 mm ×40 mm ，波长250 nm处衍射效率达67％，入臂200 mm ，出臂188 mm ，曲率半径224 mm的IV型凹面光栅。同时，利用平行离子束流制作了相同参数的IV 型凹面光栅，其250 nm处的衍射效率为30％。实验结果表明，利用弯转离子束流制作IV型凹面光栅的方法简单易行，并能够精确控制离子束流实现高衍射效率的IV型凹面光栅制作。

关键词：束流控制、衍射效率、离子束刻蚀、凹面光栅

分类号：TP394.1;TH691.9(计算技术、计算机技术)

资助基金：“863”重大项目2010AA1221091001；国家重大科研装备开发专项2011YQ120023；国家重大科研装备研制项目ZBYZ2008-1；中国科学院重大科研装备研制项目YZ201005；吉林省科技发展计划项目20070523；20086013

在线出版日期：2014-03-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：640-644