图案化聚合物表面的形状记忆特性

摘要：

利用纳秒激光双光束干涉的光刻方法,在光刻胶层制备具有周期性的一维光栅结构样品,并研究其形状记忆特性.结果表明:显影后的样品在环境温度为195℃及压力的作用下,光栅形貌发生改变,光栅垂直高度降低,衍射光强减弱;当样品冷却至室温时,光栅形貌可维持不变;当样品的环境温度为120℃时,光栅形貌恢复原状,实现微观形状记忆功能.

关键词：微加工、双光束干涉、形状记忆聚合物、微图案化

所属期刊栏目：55

分类号：TB381(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金51373064,61435005

在线出版日期：2017-06-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：702-706