衬底温度对NiTi薄膜晶化温度的影响

摘要：

采用直流磁控溅射方法, 制备出沉积在不同温度衬底上的NiTi薄膜. 应用X射线衍射、小角X射线散射和差热扫描量热法研究了两种衬底温度(室温和573 K)溅射的NiTi合金薄膜晶化温度和在763 K退火1 h的晶化程度.

关键词：NiTi薄膜、晶化温度、差热扫描量热法

所属期刊栏目：43

分类号：O484.4(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金50372024;吉林省科技厅科研项目20020611

在线出版日期：2005-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：197-200