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10.3321/j.issn:1671-5489.2005.02.014

处理电压对钛合金微弧氧化膜相结构的影响

引用
在Na2CO3-Na2SiO3溶液中, 采用正负不对称的专用交流高压电源制备了钛合金微弧氧化膜. 利用X射线衍射研究了处理参数(阴、阳极峰值电压, 处理时间等)对微弧氧化膜相结构的影响. 实验结果表明, 氧化膜主要由金红石和锐钛矿的TiO2及少量不饱和氧化的Ti6O11(TiO1.83)相组成, 它们在氧化膜中各自所占的比例受处理时间和阴、阳极峰值电压的影响较大. 当阴、阳极峰值电压分别控制在45 V和320 V, 处理时间为30 min时, 氧化膜中金红石TiO2的含量最高, 达到80%.

微弧氧化、钛合金、处理电压、相结构

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TG174.53(金属学与热处理)

2005-04-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

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吉林大学学报(理学版)

1671-5489

22-1340/O

43

2005,43(2)

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