N离子注入金刚石膜方法合成的CNx膜的成键结构

摘要：

使用N离子(能量分别为10 keV,60 keV)注入金刚石膜方法合成CNx膜,用Raman 光谱和XPS光谱研究注入前后金刚石膜的成键结构.结果表明,金刚石膜经10 keV N离子注入后,在Raman光谱中出现一个较强的金刚石峰(1 332 cm-1)和一个弱的石墨峰(G带,～1 550 cm-1).而XPS N15资料显示两个主峰分别位于～398.5 eV和～400.0 eV.金刚石膜经60 keV N离子注入后,N15 XPS光谱中的主峰位于～400.0 eV;相应地,Raman光谱中的石墨峰变得较强.通过比较,对注入样品的XPS谱中N15的成键结构作如下归属:～400.0eV属于sp2C-N键;～398.5 eV则属于sp3C-N键.

关键词：N离子注入、金刚石、成键结构

分类号：O484.5(固体物理学)

资助基金：教育部优秀青年教师资助计划;吉林省科技厅科技发展计划980544

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：49-52